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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)--納米壓印配套設(shè)備-GL Plasma等離子體清洗設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：
簡要描述：? GL Plasma等離子體清洗設(shè)備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）。
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
Quality Assurance產(chǎn)品中心
PRODUCT CATEGORY
詳細(xì)介紹
GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化，提升附著力和清洗等工藝。
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性
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