GL300 Cluster納米壓印光刻生產線

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簡要描述：GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產線是模塊化的全自動納米壓印生產線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術，可實現200/300mm基底面積上全自動高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結構復制量產。

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GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產線是模塊化的全自動納米壓印生產線，集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟。標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuum）壓印技術，可實現200/300mm基底面積上全自動高精度（優(yōu)于10nm ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 ）納米結構復制量產。設備采用模塊化設計，用戶可以根據工藝需求和生產節(jié)奏自由配置清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及壓印的模塊數量，達到生產效率。設備支持自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和壓印、自動脫模，整個工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中進行，以保證壓印結果質量。

GL300 Cluster納米壓印設備適用于DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應用領域的大規(guī)模量產。

主要功能

●全自動200/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產線
●確保壓印結構精度與結構填充完整性
●設備內自動復制柔性復合工作模具，降低大面積納米壓印模具使用成本
●全自動預處理步驟，包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠、烘烤、冷卻
●自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程在局部潔凈環(huán)境中自動進行，以保證壓印質量
●標配高功率紫外LED面光源（365nm，光強>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料

●產能可大于100片每小時，適合DOE、AR/VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、生物芯片、LED等應用領域的量產
●隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構等工藝流程，幫助客戶零門檻達到高質量的納米壓印水平

GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產線設備照片

相關參數

兼容基底尺寸	200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式	Cassette to cassette全自動上下片
晶圓預對位	光學巡邊預對位
納米壓印技術	CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓
納米壓印預處理工藝步驟	CLIV技術，適合高精度、高深寬比納米結構壓印、清洗（毛刷、二流體、兆聲波）、旋涂勻膠、加熱烘烤、冷卻、plasma表面處理
壓印精度	優(yōu)于10納米*
結構深寬比	優(yōu)于10比1*
殘余層控制	可小于10nm*
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強>200mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設備內部環(huán)境控制	標配，外部環(huán)境Class 100，內部環(huán)境可達Class 10*
自動壓印	支持
自動脫模	支持
自動工作模具復制	支持
自動工作模具更換	支持
模具基底對位功能	自動對位（選配）
Post Cure	選配
AOI在線檢測	選配
產能	可大于100片每小時*

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GL300 Cluster納米壓印光刻生產線

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